1. Biochemistry, molecular biology, and genetics /
پدیدآورنده : Todd A. Swanson, Sandra I. Kim, Marc J. Glucksman ; with editorial consultation by Michael A. Lieberman
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع : Biochemistry, Examinations, questions, etc,Molecular biology, Examinations, questions, etc,Biochemical Phenomena,Genetic Phenomena
رده :
QP518
.
3
.
S93
2010
2. Lippincott's illustrated Q & A review of biochemistry
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Rick R
موضوع :
۲ نسخه از این کتاب در ۱ کتابخانه موجود است.
3. Lippincott's illustrated Q&A review of biochemistry /
پدیدآورنده : Michael A. Lieberman, Rick Ricer
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع : Biochemistry, Examinations, questions, etc,Clinical biochemistry, Examinations, questions, etc,Biochemistry
رده :
RB112
.
5
.
L54
2010
4. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, Michael A
کتابخانه: (طهران)
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films -- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
1994
5. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
1994
6. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (أردبیل)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry, Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
7. Principles of plasma discharges and materials processing]CD[
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. ) Michael A.(, Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,، Plasma chemistry
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
8. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films-- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry-- Industrial applications
۳ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
9. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
10. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
11. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
کتابخانه: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه صنعتي خواجه نصير الدين طوسى (طهران)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
2005
12. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, Michael A.
کتابخانه: (طهران)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9L53
2005
13. Psychiatry
پدیدآورنده : edited by Allan Tasman, Jerald Kay, Jeffrey A. Lieberman, Michael B. First, Michelle B. Riba.
کتابخانه: كتابخانه مركزی دانشگاه علوم بهزیستی و توانبخشی (طهران)
موضوع : Mental Disorders.,Human Development.,Physician-Patient Relations.,Psychiatry,Psychotherapy.,methods.
رده :
E
,
RC454
2015
